哈西奈德乳膏

新霉素氟輕松乳膏

本品主要成份為哈西奈德。

本品為復方制劑，其組分為：每克含硫酸新霉素3500單位，醋酸氟輕松0.25mg，冰片5mg。化學名：硫酸新霉素分子式：C23H48N6O17S分子量：712.7222

廣東華潤順峰藥業有限公司

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國藥準字H44023372

國藥準字H44024212

用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

用于過敏性皮炎，亞急性慢性濕疹，陰囊濕疹，皮膚瘙癢癥和外陰瘙癢等。

外涂患處每日早晚各一次。

外用。涂于皮膚患處，一日2～3次。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張(尤其面部)、皮膚萎縮、萎縮紋(青少年易發生)、皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應(參看注意事項)。

1.對本品任何成份過敏者禁用。2.眼部禁用。

孕婦及哺乳期婦女用藥：尚無人局部用藥致畸作用的研究，妊娠期應慎用。外用經皮吸收大量時可從乳汁排泄，哺乳期慎用。兒童用藥：應為小面積，短期應用，一旦消退迅速停藥，一歲以內兒童盡量不用此藥。老年用藥：尚不明確。

用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

用于過敏性皮炎，亞急性慢性濕疹，陰囊濕疹，皮膚瘙癢癥和外陰瘙癢等。

1.長期和大面積應用，可引起皮膚萎縮、毛細血管擴張、發生痤瘡樣皮炎、口周皮炎、毛囊炎、增加感染的易感性等。2.偶可引起變態反應性接觸性皮炎。

1. 避免接觸眼睛和其他黏膜；2. 孕婦和哺乳期婦女慎用；3. 兒童使用需遵醫囑；4. 皮膚破損處不宜使用；5. 使用期間如出現過敏反應應立即停藥。

1.本品不能長期、大面積使用。2.應用于面部及皮膚皺褶部位應慎重權衡利弊。3.新霉素與慶大霉素有交叉過敏。