哈西奈德乳膏

醋酸地塞米松乳膏

本品主要成份為哈西奈德。

本品主要成份醋酸地塞米松C。

廣東華潤順峰藥業有限公司

天津金耀藥業有限公司

國藥準字H44023372

國藥準字H12020687

用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

本品主要用于過敏性和自身免疫性炎癥性疾病。如局限性瘙癢癥，神經性皮炎，接觸性皮炎，脂溢性皮炎，慢性濕疹等。

外涂患處每日早晚各一次。

涂患處，一日2～3次。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張(尤其面部)、皮膚萎縮、萎縮紋(青少年易發生)、皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應(參看注意事項)。

真菌性或病毒性皮膚病禁用，對本藥及其他皮質類固醇過敏者禁用。

孕婦及哺乳期婦女用藥：尚無人局部用藥致畸作用的研究，妊娠期應慎用。外用經皮吸收大量時可從乳汁排泄，哺乳期慎用。兒童用藥：應為小面積，短期應用，一旦消退迅速停藥，一歲以內兒童盡量不用此藥。老年用藥：尚不明確。

用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

本品主要用于過敏性和自身免疫性炎癥性疾病。如局限性瘙癢癥，神經性皮炎，接觸性皮炎，脂溢性皮炎，慢性濕疹等。

長期大量使用可繼發細菌、真菌感染，局部可發生痤瘡、酒渣樣皮炎、皮膚萎縮及毛細血管擴張，并可有瘙癢、色素沉著、顏面紅斑、創傷愈合障礙等反應。

1. 避免接觸眼睛和其他黏膜；2. 孕婦和哺乳期婦女慎用；3. 兒童使用需遵醫囑；4. 皮膚破損處不宜使用；5. 使用期間如出現過敏反應應立即停藥。

1.并發細菌及病毒感染時，應與抗菌藥物合用。2.不能長期大面積應用。