哈樂特(哈西奈德涂膜劑)

濃替硝唑含漱液

本品的主要成分哈西奈德。

本品每100毫升含替硝唑0.2克，輔料為甘油、甜菊素、聚山梨酯80、乙醇、羥苯乙酯、薄荷香精、桂花香精。

天津金耀藥業有限公司

四川健能制藥有限公司

國藥準字H10910061

國藥準字H20123128

本品用于皮膚過敏性炎癥的亞急性或慢性階段，如濕疹、異位性皮炎、接觸性皮炎等；非感染性皮膚病，如銀屑病、神經性皮炎、結節性瘙癢等。

用于厭氧菌感染引起的牙齦炎、冠周炎、牙周炎等口腔疾病的輔助治療。

涂于患處，每日1-2次。

含漱用。在50毫升溫開水中加入本品2毫升，在口腔中含漱1分鐘后吐棄。一日3次。兒童劑量減半。

1、對該藥過敏者。 2、由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。 3、潰瘍性病變。痤瘡、酒渣鼻。 4、眼瞼部用藥（有引起青光眼的危險）。 5、滲出性皮膚病。

不良反應少見且輕微，偶有惡心、嘔吐、口腔金屬味、食欲缺乏等。

本品用于皮膚過敏性炎癥的亞急性或慢性階段，如濕疹、異位性皮炎、接觸性皮炎等；非感染性皮膚病，如銀屑病、神經性皮炎、結節性瘙癢等。

用于厭氧菌感染引起的牙齦炎、冠周炎、牙周炎等口腔疾病的輔助治療。

1、少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢。 2、長期應用可發生皮膚毛細血管擴張（尤其面部）、皮膚萎縮、萎縮紋（青少年易發生）皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合。 3、封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。 4、經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

本品為抗厭氧菌藥。作用機制是分子中所含硝基被厭氧菌的硝基還原酶還原成一種細胞毒素，抑制DNA的合成，促使細菌死亡。

1、面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。 2、孕婦及哺乳期婦女用藥：尚無人局部用藥致畸作用的研究，妊娠期應慎用。外用經皮吸收大量時可從乳汁排泄，哺乳期慎用。 3、兒童用藥：因為面積，短期應用，一旦消退迅速停藥，一歲以內兒童盡量不用此藥。 4、老年用藥：遵醫囑。 5、藥物過量：尚不明確。

1.本品僅供含漱，且必須稀釋后使用，不得咽下。 2.用藥3日后，癥狀未緩解，請向醫師咨詢。 3.過敏體質及血液病患者慎用。 4.有神經系統反應時應及時停藥。 5.對本品過敏者禁用，過敏體質者慎用。 6.當本品性狀發生改變時禁止使用。 7.請將本品放在兒童不能接觸的地方。 8.兒童必須在成人監護下使用。 9.如正在使用其他藥品，使用本品前請咨詢醫師或藥師。