哈樂特(哈西奈德涂膜劑)

桂林西瓜霜

本品的主要成分哈西奈德。

西瓜霜、煅硼砂、黃柏、黃連、山豆根、射干、浙貝母、青黛、冰片、無患子果（炭）、大黃、黃芩、甘草、薄荷腦。輔料為二氧化硅、甜菊素、枸櫞酸。

天津金耀藥業有限公司

桂林三金藥業股份有限公司

國藥準字H10910061

國藥準字Z45021599

本品用于皮膚過敏性炎癥的亞急性或慢性階段，如濕疹、異位性皮炎、接觸性皮炎等；非感染性皮膚病，如銀屑病、神經性皮炎、結節性瘙癢等。

清熱解毒，消腫止痛。用于風熱上攻、肺胃熱盛所致的乳蛾、喉痹、口糜，癥見咽喉腫痛、喉核腫大、口舌生瘡、牙齦腫痛或出血；急、慢性咽炎，扁桃體炎，口腔炎，口腔潰瘍，牙齦炎見上述證候者及輕度燙傷(表皮未破)者。

涂于患處，每日1-2次。

外用，噴、吹或敷于患處，一次適量，一日數次；重癥者兼服，一次1-2克，一日3次。

1、對該藥過敏者。 2、由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。 3、潰瘍性病變。痤瘡、酒渣鼻。 4、眼瞼部用藥（有引起青光眼的危險）。 5、滲出性皮膚病。

尚不明確。

本品用于皮膚過敏性炎癥的亞急性或慢性階段，如濕疹、異位性皮炎、接觸性皮炎等；非感染性皮膚病，如銀屑病、神經性皮炎、結節性瘙癢等。

清熱解毒，消腫止痛。用于風熱上攻、肺胃熱盛所致的乳蛾、喉痹、口糜，癥見咽喉腫痛、喉核腫大、口舌生瘡、牙齦腫痛或出血；急、慢性咽炎，扁桃體炎，口腔炎，口腔潰瘍，牙齦炎見上述證候者及輕度燙傷(表皮未破)者。

1、少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢。 2、長期應用可發生皮膚毛細血管擴張（尤其面部）、皮膚萎縮、萎縮紋（青少年易發生）皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合。 3、封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。 4、經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

1、面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。 2、孕婦及哺乳期婦女用藥：尚無人局部用藥致畸作用的研究，妊娠期應慎用。外用經皮吸收大量時可從乳汁排泄，哺乳期慎用。 3、兒童用藥：因為面積，短期應用，一旦消退迅速停藥，一歲以內兒童盡量不用此藥。 4、老年用藥：遵醫囑。 5、藥物過量：尚不明確。

1.忌煙酒，辛辣，魚腥食物。 2.不宜在服藥期間同時服用滋補性中藥。 3.有高血壓、心臟病、肝病，糖尿病，腎病等慢性病嚴重者應在醫師指導下服用。 4.兒童，孕婦，哺乳期婦女，年老體弱，脾虛便溏者應在醫師指導下應用。 5.扁桃體有化膿或口糜嚴重患者應去醫院就診。 6.發熱體溫超過38.5℃的患者應去醫院就診。 7.口腔內噴或敷藥時請不要呼吸，以防藥粉進入呼吸道而引起嗆咳。用藥后半小時內不得進食，飲水。 8.嚴格按用法用量應用，本品不宜長期應用。 9.用藥3天癥狀無緩解，應去醫院就診。 10.對本品過敏者禁用，過敏體質者慎用。 11.藥品性狀發生改變時禁止應用。 12.兒童必須在成人監護下使用。 13.請將本品放在兒童不能接觸的地方。 14.如正在應用其他藥品，使用本品前請咨詢醫師或藥師。