二硫化硒洗劑

哈西奈德涂膜劑

主要成分為本品每克含主要成份二硫化硒25毫克。輔料為;二氧化鈦、甘油皂土、檸檬酸洗凈劑、單硬脂酸甘油脂、十八醇、十二烷基硫酸鈉、磷酸氫二鈉、純化水。

本品主要成分及其化學名稱為：氯氟舒松。其化學名稱為：21-氯-9-氟-11β，16α，17-三羥基孕甾-4-烯-3，20-二酮環-16，17-與丙酮結合成半縮醛。其結構式為：分子式為：C24H32CIFO5分子量為：454.97

上海新亞藥業高郵有限公司

天津金耀藥業有限公司

國藥準字H10890059

國藥準字H10910061

用于去頭屑、頭皮脂溢性皮炎、花斑癬（汗斑）。

激素類藥，適用于皮膚過敏性炎癥的亞急性或慢性階段，如濕疹、異位性皮炎、接觸性皮炎等；非感染性皮膚病，如銀屑病、神經性皮炎、結節性瘙癢等。

1.治療頭皮屑和頭皮脂溢性皮炎。 (1)先用肥皂清洗頭發和頭皮。 (2)取5～10克藥液于濕發及頭皮上，輕揉至出泡沫。 (3)待3～5分鐘后，用溫水洗凈，必要時可重復一次。 (4)每周2次，一個療程2～4周，必要時可重復1個或2個療程。 2.治療花斑癬。 (1)洗凈患處。 (2)根據病患面積取適量藥液涂抹(一般10至30克)。 (3)保留10～30分鐘后用溫水洗凈。 (4)每周2次，一個療程2～4周，必要時可重復1個或2個療程。

涂于患處，每日1～2次。

1.皮膚有炎癥、糜爛、滲出部位禁用。 2.外生殖器部位禁用。

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兒童注意事項： 兒童必須在成人的監護下使用。 妊娠與哺乳期注意事項： 尚不明確。 老人注意事項： 尚不明確。

兒童注意事項： 應為面積，短期應用，一旦消退迅速停藥，一歲以內兒童盡量不用此藥。 妊娠與哺乳期注意事項： 尚無人局部用藥致畸作用的研究，妊娠期應慎用。外用經皮吸收大量時可從乳汁排泄，哺乳期慎用。 老人注意事項： 遵醫囑。

用于去頭屑、頭皮脂溢性皮炎、花斑癬（汗斑）。

激素類藥，適用于皮膚過敏性炎癥的亞急性或慢性階段，如濕疹、異位性皮炎、接觸性皮炎等；非感染性皮膚病，如銀屑病、神經性皮炎、結節性瘙癢等。

具有抗皮脂溢性、抗頭屑、抗細菌和抗真菌及角質溶解作用。本品可與過氧化酶一胱氨酸結合，抑制表皮油脂中不飽和脂及酸過氧化，降低皮脂中脂肪酸含量。同時可抑制頭皮表皮細胞的生長，抑制核分裂造成表皮細胞更替減少。本品尚對頭癬的病原菌斷毛癬菌有殺火孢子作用。具有抗皮脂溢性、抗頭屑、抗細菌和抗真菌及角質溶解作用。本品可與過氧化酶一胱氨酸結合，抑制表皮油脂中不飽和脂及酸過氧化，降低皮脂中脂肪酸含量。同時可抑制頭皮表皮細胞的生長，抑制核分裂造成表皮細胞更替減少。本品尚對頭癬的病原菌斷毛癬菌有殺火孢子作用。

本品為腎上腺皮質激素類藥物，局部外用具有抗炎、抗過敏及抗瘙癢作用。

1.本品僅供外用，不可內服。 2.對本品過敏者禁用;皮膚有炎癥、滲出者慎用。 3.在染發、燙發后兩天內不得使用本品。 4.頭皮用藥后應完全沖洗干凈，以免頭發脫色。 5.避免接觸眼睛。 6.用前應充分搖勻，如天冷藥液變稠可溫熱后使用。 7.用后應塞緊瓶蓋。 8.不要用金屬器件接觸藥液，以免影響藥效。 9.如經2個或3個療程病癥仍未見好轉請向醫師咨詢。 10.外用部位如有灼燒感、瘙癢、紅腫等情況，應停止用藥，并將局部藥物洗凈。必要時向醫師咨詢。 11.兒童必須在成人的監護下使用。 12.請將此藥品放在兒童不能接觸的地方。 13.當藥品性狀發生改變時禁止使用。

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