哈西奈德乳膏

復方吲哚美辛酊

本品主要成份為哈西奈德

本品為復方制劑，其組分為吲哚美辛、馬來酸氯苯那敏、度米芬、鞣酸苦參堿、甘草、適量乙醇。

上海醫藥集團青島國風藥業股份有限公司

貴州宏奇藥業有限公司

國藥準字H37022987

國藥準字H52020603

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

用于日光性皮炎、接觸性皮炎、丘疹性蕁麻疹、濕疹，神經性皮炎、脂溢性皮炎以及皮膚瘙癢癥、痤瘡、蚊蟲叮咬等。

外涂患處，每日早晚各一次。

外用。用棉球蘸取適量藥液涂搽于局部患處，并稍加按摩效果更佳。每日用藥2-3次或遵醫囑。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。痤瘡、酒渣鼻。4.眼瞼部用藥(有引起青光眼的危險)。5.滲出性皮膚病。

可能引起胃腸道不適、頭痛、皮疹、水腫等不良反應。

孕婦及哺乳期婦女用藥：尚不明確。兒童用藥：兒童必須在成人監護下使用。老年用藥：與成人無差異。

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

用于日光性皮炎、接觸性皮炎、丘疹性蕁麻疹、濕疹，神經性皮炎、脂溢性皮炎以及皮膚瘙癢癥、痤瘡、蚊蟲叮咬等。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張、皮膚萎縮、萎縮紋皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。 請仔細閱讀說明書并遵醫囑使用。

可能引起胃腸道不適、頭痛、皮疹、水腫等不良反應。