哈西奈德乳膏

鹽酸氯環利嗪片

本品主要成份為哈西奈德

鹽酸氯環利嗪。

上海醫藥集團青島國風藥業股份有限公司

焦作福瑞堂制藥有限公司

國藥準字H37022987

國藥準字H41025168

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

適用于各種過敏性疾病。即急慢性蕁麻疹、接觸性皮炎、過敏性皮炎、局部神經性皮炎、濕疹、皮膚瘙癢癥及其他皮炎，如發癬菌疹、扁平苔癬等。

外涂患處，每日早晚各一次。

口服，一次一片，一日兩次，兒童減半或在醫生指導下使用。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。痤瘡、酒渣鼻。4.眼瞼部用藥(有引起青光眼的危險)。5.滲出性皮膚病。

同一般抗組胺藥。嗜睡，服用大劑量可出現口干、眩暈等癥狀。

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

適用于各種過敏性疾病。即急慢性蕁麻疹、接觸性皮炎、過敏性皮炎、局部神經性皮炎、濕疹、皮膚瘙癢癥及其他皮炎，如發癬菌疹、扁平苔癬等。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張、皮膚萎縮、萎縮紋皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。 請仔細閱讀說明書并遵醫囑使用。

對本品過敏者禁用。