哈西奈德溶液

美羧偽麻顆粒

本品主要成份為：哈西奈德（氯氟舒松、哈西縮松）。

本品為復方制劑，每粒含氫溴酸右美沙芬15mg、羧甲司坦250mg、鹽酸偽麻黃堿30mg。

北京曙光藥業(yè)有限責任公司

西安德天藥業(yè)股份有限公司

國藥準字H11021030

國藥準字H20051955

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經(jīng)性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

用于治療和減輕感冒、支氣管炎等疾病引起的鼻塞、咳嗽、咯痰等。

外涂患處每日早晚各一次。

口服。成人每次1—2袋，每6小時一次或遵醫(yī)囑。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發(fā)性皮膚病變。3.潰瘍性病變。4.痤瘡、酒渣鼻。5.眼瞼部用藥（有引起青光眼的危險）。6.滲出性皮膚病。7.面部不宜應用。

1對本品中所含成份過敏者禁用。2嚴重冠狀動脈疾患或嚴重高血壓及有精神病史者禁用。3活動性胃潰瘍禁用。

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經(jīng)性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

用于治療和減輕感冒、支氣管炎等疾病引起的鼻塞、咳嗽、咯痰等。

少數(shù)患者涂藥部位的皮膚發(fā)生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發(fā)生皮膚毛細血管擴張（尤其面部）、皮膚萎縮、萎縮紋（青少年易發(fā)生）皮膚萎縮后繼發(fā)紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發(fā)真菌感染。經(jīng)皮膚吸收多時，可發(fā)生全身性不良反應。

本品由羧甲司坦、鹽酸偽麻黃堿、氫溴酸右美沙芬組成的復方制劑。其中羧甲司坦主要減少支氣管粘液分泌，使痰的粘稠度下降而易于咳出；鹽酸偽麻黃堿為擬腎上腺素藥，可收縮鼻粘膜血管，減輕鼻塞、流涕癥狀；氫溴酸右美沙芬為中樞性鎮(zhèn)咳藥，通過抑制延腦咳嗽中樞而產(chǎn)生作用，長期應用未見成癮性。

大面積大量用藥或封包方式可使經(jīng)皮吸收多，可發(fā)生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現(xiàn)可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現(xiàn)急性腎上腺皮質(zhì)功能不全。出現(xiàn)局部不耐受現(xiàn)象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內(nèi)。

1.服用量每日不得超過8粒，療程不得超過7天，超量服用可造成頭暈、失眠及精神癥狀；2.對麻黃堿藥理作用敏感者，心臟病、高血壓、甲亢、青光眼、肺氣腫等呼吸困難患者，前列腺肥大合并排尿困難及精神抑郁癥患者不宜服用本品。3.服用本品若癥狀未見改善或出現(xiàn)高熱，應及時停藥。