哈西奈德溶液

鹽酸特比萘芬乳膏

本品主要成份為：哈西奈德（氯氟舒松、哈西縮松）。

本品每克含主要成分鹽酸特比萘芬0.01克。輔料為：異丙基肉豆蔻酯、吐溫60、硬脂醇、十六醇、十六烷基棕櫚酸酯、司盤60、苯甲醇。

北京曙光藥業有限責任公司

重慶科瑞制藥(集團)有限公司

國藥準字H11021030

國藥準字H20103538

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

用于治療手癬、足癬、體癬、股癬、花斑癬及皮膚念珠菌病等。

外涂患處每日早晚各一次。

局部用藥：常用劑量為每天1～2次，用藥前應清潔和干燥患處，然后將乳膏薄薄涂于患處及其周圍，并加以輕揉，如果患處已擦爛（如乳腺下、指間、臀間、腹股溝），涂擦后尤其在晚上可用紗布敷蓋。療程：體癬、股癬1～2周，足癬2～4周，花斑癬2周。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。4.痤瘡、酒渣鼻。5.眼瞼部用藥（有引起青光眼的危險）。6.滲出性皮膚病。7.面部不宜應用。

對特比萘芬或乳劑中任何型劑過敏者禁用。

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

用于治療手癬、足癬、體癬、股癬、花斑癬及皮膚念珠菌病等。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張（尤其面部）、皮膚萎縮、萎縮紋（青少年易發生）皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

偶見皮膚局部刺激如燒灼感，或過敏反應如皮疹、瘙癢等。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。

1.僅供外用，避免誤入眼內。應放在兒童不能拿到的地方。　　2.通常臨床癥狀于用藥數天后即可緩解，若要預防復發，應規律的使用本品一段時間，若兩周后無效則要復查診斷結果。　　3.不得用于皮膚破潰處，避免接觸眼睛和其他黏膜（如口、鼻等）。　　4.孕婦及哺乳期婦女慎用。