哈西奈德乳膏

鹽酸萘替芬溶液

本品主要成份為哈西奈德

本品每毫升含主要成份鹽酸萘替芬10mg。

特一藥業集團股份有限公司

唐山紅星藥業有限責任公司

國藥準字H44021100

國藥準字H19980173

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

適用于敏感真菌所引起的皮膚真菌病如體股癬，手足癬，頭癬，甲癬，花斑癬，淺表念珠菌病以及皮膚皺褶部的擦爛性真菌病。

外涂患處，每日早晚各一次。

外用：涂抹患處，病損表面及四周約2.5cm寬的正常皮膚均應涂敷，用量為一日1次。療程隨病種及病變部位有所不同，一般2～4周，嚴重者可用到8周，甲癬需用6個月。為預防復發，體征消失后可繼續用藥2周。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。痤瘡、酒渣鼻。4.眼瞼部用藥(有引起青光眼的危險)。5.滲出性皮膚病。

不良反應罕見，少數患者有局部刺激，如紅斑、燒灼及干燥、瘙癢等感覺，個別患者可發生接觸性皮炎，無全身不良反應。

孕婦及哺乳期婦女用藥：動物實驗資料表明外用皮膚可分布于乳汁中，故對哺乳期婦女慎用。孕婦用藥資料不詳。兒童用藥：尚不知本品對兒童的安全性和有效性。老年用藥：尚不明確。

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

適用于敏感真菌所引起的皮膚真菌病如體股癬，手足癬，頭癬，甲癬，花斑癬，淺表念珠菌病以及皮膚皺褶部的擦爛性真菌病。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張、皮膚萎縮、萎縮紋皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。 請仔細閱讀說明書并遵醫囑使用。

1. 避免接觸眼睛和黏膜；2. 孕婦和哺乳期婦女慎用；3. 對本品過敏者禁用；4. 用藥期間避免過量飲酒。