哈西奈德乳膏

維A酸乳膏

本品主要成份為哈西奈德

本品每支含維A酸15毫克。輔料為：硬脂酸、單硬脂酸甘油酯、白凡士林、液狀石蠟、甘油、十二烷基硫酸鈉、羥苯乙酯、香精、苯扎溴銨。

特一藥業集團股份有限公司

遂成藥業股份有限公司

國藥準字H44021100

國藥準字H20053241

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

用于尋常痤瘡、及角化異常性疾病。

外涂患處，每日早晚各一次。

局部外用。洗凈患處后，取適量該藥品涂于患處，每晚睡前1次。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。痤瘡、酒渣鼻。4.眼瞼部用藥(有引起青光眼的危險)。5.滲出性皮膚病。

用藥部位可能發生紅斑、腫脹、脫屑、結痂、色素增加或減退，偶見不良反應。

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

用于尋常痤瘡、及角化異常性疾病。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張、皮膚萎縮、萎縮紋皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

本品可促進表皮細胞更新，調節表皮細胞增殖和分化，使角質層細胞疏松而容易脫落，有利于去除粉刺，并抑制新的粉刺形成。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。 請仔細閱讀說明書并遵醫囑使用。

1.用藥部位避免日光照射。 2.兒童慎用。 3.不應大面積使用。 4.不得用于皮膚破潰處。 5.哺乳期婦女在用藥期間應停止哺乳，育齡婦女用藥期間嚴禁受孕。 6.避免接觸眼睛和其他黏膜（如口、鼻等）。 7.用藥部位如有燒灼感、瘙癢、紅腫等情況應停藥，并將局部藥物洗凈，必要時向醫師咨詢。 8.用于治療痤瘡，起初數周可暫加劇，仍應繼續治療6周以上才能達到最大療效。 9.本品可能引起嚴重刺激或脫屑，不宜用于皮膚皺褶處。 10.對本品過敏者禁用，過敏體質者慎用。 11.本品性狀發生改變時禁止使用。 12.請將本品放在兒童不能接觸的地方。 13.兒童必須在成人監護下使用。 14.如正在使用其他藥品，使用本品前請咨詢醫師或藥師。