哈西奈德乳膏

復方醋酸曲安奈德涂膜劑

本品主要成份為哈西奈德

本品為復方制劑，每瓶含酷釀曲安奈德17.25mg，鹽股林可霉素172.5mg(17.25萬單位)

特一藥業集團股份有限公司

遼寧新高制藥有限公司

國藥準字H44021100

國藥準字H21023019

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

用于銀屑病、神經性皮炎、慢性濕疹、扁平苔癬、盤狀紅斑狼瘡。

外涂患處，每日早晚各一次。

外用。涂于患處，每次0.2-0.3ml，每日1-2次或遵醫囑。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。痤瘡、酒渣鼻。4.眼瞼部用藥(有引起青光眼的危險)。5.滲出性皮膚病。

1.對本品過敏者禁用。 2.細菌性、真菌性及病毒性皮膚病禁用. 3.潰瘍性皮膚病禁用。 4.孕婦及哺乳期婦女禁用。

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

用于銀屑病、神經性皮炎、慢性濕疹、扁平苔癬、盤狀紅斑狼瘡。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張、皮膚萎縮、萎縮紋皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

偶有過敏癥狀或疼痛增加、頭暈、焦慮、紅斑、血清氨基轉移酶及總膽紅質升高等反應。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。 請仔細閱讀說明書并遵醫囑使用。

1.使用本劑時，原則上應確認敏感性，投藥期間應限于疾病治療所需要最低限度的期間。 2.使用后應將瓶口蓋好，不要使瓶口污染。 3.出現不良反應時應立即停止使用，并向醫師咨詢。 4.當藥物性狀發生改變時禁止使用。 5.如正在使用其他藥品，使用本品前請咨詢醫師或藥師。