哈西奈德乳膏

復方十一烯酸鋅曲安奈德軟膏

本品主要成份為哈西奈德

本品為復方制劑,其組分為:每10g內含十一烯酸鋅2g,十一烯酸0.5g,醋酸曲安奈德0.0004g,輔料適量。

特一藥業集團股份有限公司

天方藥業有限公司

國藥準字H44021100

國藥準字H41025179

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

用于手足癬、體癬及股癬。對其他皮膚瘙癢癥有一定作用。

外涂患處，每日早晚各一次。

外用，一日2-3次。涂于洗凈的患處。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。痤瘡、酒渣鼻。4.眼瞼部用藥(有引起青光眼的危險)。5.滲出性皮膚病。

1.局部嚴重潰爛者禁用。2.對本品過敏者禁用。

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

用于手足癬、體癬及股癬。對其他皮膚瘙癢癥有一定作用。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張、皮膚萎縮、萎縮紋皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

偶見過敏反應和皮炎。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。 請仔細閱讀說明書并遵醫囑使用。

1.當藥物性狀發生改變時，不得使用。 2.切忌入口，避免接觸眼睛。 3.涂部位如有灼燒感、瘙癢、紅腫等，應停止用藥，洗凈。必要時向醫師咨詢。 4.水皰型和磷屑角化型均可用本品，每晚睡前，洗凈后，涂于患處，連續4周以上。 5.如使用本品連續4周以上未見好轉，應復診。 6.請將本藥品放在兒童不能接觸的地方。