哈西奈德乳膏

鹽酸環丙沙星乳膏

本品主要成份為哈西奈德

主要成份：鹽酸環丙沙星。化學名稱為：1-環丙基-6-氟-1,4-二氫-4-氧化-7-（1-哌嗪基）-3-喹啉羧酸鹽酸鹽-水合物。

特一藥業集團股份有限公司

無錫曙輝藥業有限公司

國藥準字H44021100

國藥準字H10950263

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

廣譜抗菌藥。用于治療膿皰瘡、癤腫、毛囊炎、濕疹合并感染、外傷感染、癬病合并感染及其他化膿性皮膚感染等。

外涂患處，每日早晚各一次。

外用。涂患處，一日2～3次或遵醫囑。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。痤瘡、酒渣鼻。4.眼瞼部用藥(有引起青光眼的危險)。5.滲出性皮膚病。

對本品或其他喹諾酮類藥物有過敏史者禁用。

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

廣譜抗菌藥。用于治療膿皰瘡、癤腫、毛囊炎、濕疹合并感染、外傷感染、癬病合并感染及其他化膿性皮膚感染等。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張、皮膚萎縮、萎縮紋皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

偶有輕微刺痛感，但不影響繼續治療和療效。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。 請仔細閱讀說明書并遵醫囑使用。

使用過程中若出現皮疹等過敏癥狀或嚴重其他不良反應，應立即停藥。