哈西奈德乳膏

乙氧苯柳胺軟膏

本品主要成份為哈西奈德

本品主要成份為乙氧苯柳胺。化學名稱：N-(4-乙氧苯基)-2-羥基苯甲酰分子式：C15H15NO3分子量：257.29

特一藥業集團股份有限公司

山東新華制藥股份有限公司

國藥準字H44021100

國藥準字H20010370

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

本品為非甾體抗炎、抗過敏藥物，適用于慢性濕疹及神經經性皮炎。

外涂患處，每日早晚各一次。

剛溫水清洗患處后，局部涂敷，每日三次，每次用量按皮損面積大小調整，常用量為每次0.25-2g(1/40-1/5支)。慢性濕疹患者每一療程為四周，神經性皮炎患者每一療程為兩周，可連用兩個療程。或遵醫囑。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。痤瘡、酒渣鼻。4.眼瞼部用藥(有引起青光眼的危險)。5.滲出性皮膚病。

可有下列反應：局部反應：如癢、紅，灼熱、脫屑等。接觸性皮炎等過敏反應：表現為紅斑、濕疹、水皰、瘙癢增加等。臨床研究中個別病例出現血小板下降，與本品的關系尚不明確。

孕婦及哺乳期婦女用藥：尚不明確。兒童用藥：尚不明確。老年用藥：尚不明確。

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

本品為非甾體抗炎、抗過敏藥物，適用于慢性濕疹及神經經性皮炎。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張、皮膚萎縮、萎縮紋皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。 請仔細閱讀說明書并遵醫囑使用。

1.對本品過敏者禁用；若發生接觸性皮炎應立即停藥，嚴重者應采取相應治療措施。 2.用藥后忌用肥皂水洗患處； 3.用藥期間禁食辛、辣等刺激性食物。