哈西奈德乳膏

復方磺胺氧化鋅軟膏

本品主要成份為哈西奈德

復方制劑，其組分為：每克含磺胺0.03克、氧化鋅0.05克等。

通藥制藥集團股份有限公司

廣州白云山制藥股份有限公司白云山何濟公制藥廠

國藥準字H22022341

國藥準字H44024458

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

用于濕疹、創口潰瘍等。

外涂患處，每日早晚各一次。

外用。用溫水洗凈患部后涂敷藥膏，一日2-3次。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。痤瘡、酒渣鼻。4.眼瞼部用藥(有引起青光眼的危險)。5.滲出性皮膚病。

局部過敏反應可有皮疹、紅斑及瘙癢等。

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

用于濕疹、創口潰瘍等。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張、皮膚萎縮、萎縮紋皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

氧化鋅為皮膚的弱收斂劑，既有滋潤和保護作用，又有收斂及干燥性能；硼酸為弱防腐藥，對細菌和真菌有抑制作用，刺激性小；爐甘石、磺胺為廣譜抗菌藥，對革蘭陽性和陰性菌均具有抑菌作用；水楊酸甲酯有促進局部循環，止痛作用。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。 請仔細閱讀說明書并遵醫囑使用。

1.用藥一周后癥狀未緩解，應向醫師咨詢。2.藥物性狀發生改變時，禁止使用。3.兒童必須在家長監護下使用。4.請將此藥品放在兒童不能接觸的地方。5.不宜長期大面積使用。