哈西奈德乳膏

復方醋酸地塞米松乳膏

本品主要成份為哈西奈德

本品為復方制劑，每克含醋酸地塞米松0.75毫克，樟腦10毫克，薄荷腦10毫克。輔料為：硬脂酸、白凡士林、十八醇、甘油、十二烷基硫酸鈉、羥苯乙酯、二甲基亞砜、純化水。

通藥制藥集團股份有限公司

廣州白云山醫藥集團股份有限公司白云山何濟公制藥廠

國藥準字H22022341

國藥準字H44024666

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

用于局限性瘙癢癥、神經性皮炎、接觸性皮炎、酯溢性皮炎以及慢性濕疹。

外涂患處，每日早晚各一次。

外用。一日1～2次，取少量涂于患處，并輕揉片刻。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。痤瘡、酒渣鼻。4.眼瞼部用藥(有引起青光眼的危險)。5.滲出性皮膚病。

患處已破潰、化膿或有明顯滲出者禁用。病毒感染者（如有皰疹、水痘）禁用。

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

用于局限性瘙癢癥、神經性皮炎、接觸性皮炎、酯溢性皮炎以及慢性濕疹。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張、皮膚萎縮、萎縮紋皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

長期使用可致皮膚萎縮、毛細血管擴張、色素沉著以及繼發感染。偶見過敏反應。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。 請仔細閱讀說明書并遵醫囑使用。

1.避免接觸眼睛和其他黏膜（如眼、鼻等） 2.孕婦、哺乳期婦女慎用。 3.不宜大面積，長期使用；用藥1周后癥狀為緩解，請咨詢醫師。 4.用藥部位如有燒灼感、紅腫等情況應停用，比將局部藥物洗凈，必要時向醫師咨詢。 5.如并發細菌或真菌感染，應咨詢醫生處理。 6.運動員慎用。 7.小兒避免使用。 8.對本品過敏者禁用，過敏體質者慎用。 9.本品狀態改變時慎用。 10.請放在兒童不能接觸的地方。 11.兒童必在成年人監護下使用。 12.如正在使用其他藥品，使用本品前請咨詢藥師。