哈西奈德溶液

酞丁安乳膏

本品主要成份為：哈西奈德（氯氟舒松、哈西縮松）。

本品的主要成份為酞丁安，化學名稱為:3-鄰苯二甲酰亞氨基-2-氧代丁醛-1,2-雙縮氨基硫脲。

國藥集團三益藥業(yè)(蕪湖)有限公司

山東明仁福瑞達制藥股份有限公司

國藥準字H20103195

國藥準字H37020129

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經(jīng)性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

用于單純皰疹、帶狀皰疹；也可用于淺表真菌感染，如體癬、股癬、手足癬。

外涂患處每日早晚各一次。

外用。涂患處，用于治療單純皰疹、帶狀皰疹時，一日3次；用于治療淺表真菌感染時，早晚各一次，體股癬連用3周，手足癬連用4周。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發(fā)性皮膚病變。3.潰瘍性病變。4.痤瘡、酒渣鼻。5.眼瞼部用藥（有引起青光眼的危險）。6.滲出性皮膚病。7.面部不宜應用。

對酞丁安過敏患者禁用。

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經(jīng)性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

用于單純皰疹、帶狀皰疹；也可用于淺表真菌感染，如體癬、股癬、手足癬。

少數(shù)患者涂藥部位的皮膚發(fā)生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發(fā)生皮膚毛細血管擴張（尤其面部）、皮膚萎縮、萎縮紋（青少年易發(fā)生）皮膚萎縮后繼發(fā)紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發(fā)真菌感染。經(jīng)皮膚吸收多時，可發(fā)生全身性不良反應。

少數(shù)病例有局部瘙癢刺激反應，如皮膚紅斑、丘疹及刺癢感。

大面積大量用藥或封包方式可使經(jīng)皮吸收多，可發(fā)生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現(xiàn)可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現(xiàn)急性腎上腺皮質(zhì)功能不全。出現(xiàn)局部不耐受現(xiàn)象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內(nèi)。

1育齡婦女慎用。2使用時注意勿入口內(nèi)和眼內(nèi)