哈西奈德溶液

氧氟沙星凝膠

本品主要成份為：哈西奈德（氯氟舒松、哈西縮松）。

本品主要成份為氧氟沙星。

武漢五景藥業有限公司

山東博士倫福瑞達制藥有限公司

國藥準字H42021096

國藥準字H20064071

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

用于敏感細菌所致的皮膚軟組織細菌感染性疾病，如毛囊炎、癤腫、膿皰瘡，外傷感染及濕疹感染等。

外涂患處每日早晚各一次。

局部外用，一日2次。膿性分泌物多者，先用生理鹽水清潔患處后再使用本品。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。4.痤瘡、酒渣鼻。5.眼瞼部用藥（有引起青光眼的危險）。6.滲出性皮膚病。7.面部不宜應用。

對本品或其他喹諾酮類藥物有過敏史者禁用。

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

用于敏感細菌所致的皮膚軟組織細菌感染性疾病，如毛囊炎、癤腫、膿皰瘡，外傷感染及濕疹感染等。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張（尤其面部）、皮膚萎縮、萎縮紋（青少年易發生）皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

目前本品皮膚用藥的文獻報道記載本品不良反應少見，但本品是否會出現局部刺激癥狀及局部或全身過敏反應尚不明確。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。

1.和其他抗感染藥一樣，延長使用本品將可能導致非敏感微生物的過度生長，包括真菌。因此本品不應長期使用。 2.喹諾酮類藥物全身用藥時，即使只有一次，也有可能發生過敏反應，某些反應伴有心血管虛脫、喪失知覺、血管性水腫（包括咽、喉或臉部水腫）、氣道阻塞、呼吸困難、蕁麻疹、瘙癢等。如果發生皮疹或其他過敏反應的癥狀，應立即停止用藥并咨詢醫生。 3.嚴重肝腎功能不全者慎用。 4.請將本品放在兒童不能接觸的地方。