哈西奈德溶液

阿莫西林顆粒

本品主要成份為：哈西奈德（氯氟舒松、哈西縮松）。

本品主要成份為阿莫西林，其化學名為(2S,5R,6R)-3,3-二甲基-6-[(R)-(-)-2-氨基-2-(4-羥基苯基)乙酰氨基]-7-氧代-4-硫雜-1-氮雜雙環[3.2.0]庚烷-2-甲酸三水合物。分子式：C16H19N3O5S·3H2O分子量：419.46

武漢五景藥業有限公司

昆明積大制藥股份有限公司

國藥準字H42021096

國藥準字H53021725

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

用于敏感致病菌所致呼吸道感染、泌尿生殖系統感染、急性單純性淋病、傷寒、傷寒帶菌者及鉤端螺旋體病，亦可與克拉霉素蘭索拉唑三聯用藥根除胃十二指腸幽門螺桿菌，降低消化道潰瘍復發率

外涂患處每日早晚各一次。

口服。成人一次0.5g，每6～8小時1次，一日劑量不超過4g。小兒一日劑量按體重...

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。4.痤瘡、酒渣鼻。5.眼瞼部用藥（有引起青光眼的危險）。6.滲出性皮膚病。7.面部不宜應用。

1．惡心、嘔吐、腹瀉及假膜性腸炎等胃腸道反應。

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

用于敏感致病菌所致呼吸道感染、泌尿生殖系統感染、急性單純性淋病、傷寒、傷寒帶菌者及鉤端螺旋體病，亦可與克拉霉素蘭索拉唑三聯用藥根除胃十二指腸幽門螺桿菌，降低消化道潰瘍復發率

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張（尤其面部）、皮膚萎縮、萎縮紋（青少年易發生）皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。

1．青霉素類口服藥物偶可引起過敏性休克，尤多見于有青霉素或頭孢菌素過敏史的患者。用藥前必須詳細詢問藥物過敏史并作青霉素皮膚試驗。如發生過敏性休克，應就地搶救，予以保持氣道暢通、吸氧及應用腎上腺素、糖皮質激素等治療措施。