哈西奈德溶液

硫酸新霉素軟膏

本品主要成份為：哈西奈德（氯氟舒松、哈西縮松）。

本品主要成份為硫酸新霉素。 化學名稱:4-氧-(2,6-二氨基-2,6-二脫氧-a-D-吡喃葡糖基)-5-氧-【3-氧-2,6-二氨基-2,6-二脫氧-β-L-艾杜吡喃糖基)-β-D-呋喃核糖基】-2-脫氧-D-鏈霉胺硫酸鹽。 分子式:C23H46N6O13·H2S04

武漢五景藥業有限公司

上海通用藥業股份有限公司

國藥準字H42021096

國藥準字H31022262

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

抗生素類藥:用于敏感菌所致的皮膚黏膜感染，如膿皮病、化膿性皮膚病、潰瘍等有繼發感染者。

外涂患處每日早晚各一次。

局部涂擦或包敷患處，一日1-2次。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。4.痤瘡、酒渣鼻。5.眼瞼部用藥（有引起青光眼的危險）。6.滲出性皮膚病。7.面部不宜應用。

對氨基糖苷類抗生素過敏者禁用。

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

抗生素類藥:用于敏感菌所致的皮膚黏膜感染，如膿皮病、化膿性皮膚病、潰瘍等有繼發感染者。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張（尤其面部）、皮膚萎縮、萎縮紋（青少年易發生）皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

(1)在一項研究中，患接觸性皮炎或慢性皮膚損害(如郁血皮炎)者有3.7%~60%對局部用20%新霉素、(有堿基濃度為3.5mg/g的硫酸新霉素制品供應發生了過敏。但如涂藥于無損的皮膚，且治療不超過7日，則發生率僅約為1%。可能發生寫其他氨基糖苷類抗生素的交義過敏。用20%的新霉素凡王林膏做的斑貼試驗，應在48小時及96小時時看結果。 (2)長期局部外用可引起接觸性皮炎

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。

(1)交叉過敏，對一種氨基糖苷類抗生素不能耐受者可能對其他氨基糖苷類亦不能耐受 (2)本品局部應用可能引起皮膚過敏，并可導致令后局部應用新霉素時產生過敏反應。新霉素局部應用仍可引起腎毒性或耳毒性，尤其當患者腎功能減退或與其他腎毒性或耳毒性藥物合用時。 (3)新霉素軟膏局部應用后，完整皮膚很少吸收，但燒傷面、肉芽組織和表皮剝脫的巨大創面則很容易吸收。 (4)新霉素不宜用于全身性感染的治療。 (5)本品對銅綠假單胞菌無效