哈西奈德溶液

制霉素片

本品主要成份為：哈西奈德（氯氟舒松、哈西縮松）。

本品主要成份為制霉素,為多烯類抗真菌抗生素,含有制霉菌素A1、A3和多真菌素B。

武漢五景藥業有限公司

特一藥業集團股份有限公司

國藥準字H42021096

國藥準字H44021121

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

口服用于治療消化道念珠菌病

外涂患處每日早晚各一次。

消化道念珠菌病：口服，成人一次50~100萬單位(1~2片)，一日3次；小兒每日按體重5~10萬單位/kg，分3~4次服。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。4.痤瘡、酒渣鼻。5.眼瞼部用藥（有引起青光眼的危險）。6.滲出性皮膚病。7.面部不宜應用。

1.牛痘、水痘等病毒性皮膚病不宜應用。 2.禁用于念珠菌以外的其它霉菌性皮膚病。 3.對本品所含各成份有過敏史者，眼科及鼓膜穿孔的患者，有嚴重循環系統疾病的患者禁用。〔注意事項〕 4.本品含有多種抗生素，長期使用會導致不敏感細菌和霉菌的過量生長，而引起二重感染，對此必須同時使用其它抗菌治療。 5.本品含有新霉素，能引起腎和耳毒性反應，對于可能引起新霉素吸收的大面積燒傷，營養性潰瘍等，應避免長期或大劑量使用。 6.孕婦不得大劑量或長期使用。

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

口服用于治療消化道念珠菌病

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張（尤其面部）、皮膚萎縮、萎縮紋（青少年易發生）皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

口服較大劑量時可發生腹瀉、惡心、嘔吐和上腹疼痛等消化道反應，減量或停藥后迅速消失。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。

本品對全身真菌感染無治療作用