哈西奈德溶液

阿莫西林顆粒

本品主要成份為：哈西奈德（氯氟舒松、哈西縮松）。

【主要成份】本品主要成份為阿莫西林，其化學名為(2S,5R,6R)-3,3-二甲基-6-[(R)-(-)-2-氨基-2-(4-羥基苯基)乙酰氨基]-7-氧代-4-硫雜-1-氮雜雙環[3.2.0]庚烷-2-甲酸三水合物。

武漢五景藥業有限公司

山東淄博新達制藥有限公司

國藥準字H42021096

國藥準字H37023720

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

用于敏感菌(不產β一內酰胺酶菌株)所致下列感染：兒科抗生素，主要用于中耳炎、鼻竇炎、咽炎、扁桃體炎、泌尿生殖道感染、皮膚軟組織感染、急性支氣管炎、肺炎等下呼吸道感染。

外涂患處每日早晚各一次。

口服。撕開小袋，把藥粉倒入適量的涼開水中，搖勻，即可服用。小兒：一日劑量按體重2...

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。4.痤瘡、酒渣鼻。5.眼瞼部用藥（有引起青光眼的危險）。6.滲出性皮膚病。7.面部不宜應用。

1.惡心、嘔吐、腹瀉及假膜性腸炎等胃腸道反應。 2.皮疹、藥物熱和哮喘等過敏反應。 3.貧血、血小板減少、嗜酸性粒細胞增多等。 4.血清氨基轉移酶可輕度增高。 5.由念球菌或耐藥菌引起的二重感染。 6.偶見興奮、焦慮、失眠、頭暈以及行為異常等中樞神經系統癥狀。

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

用于敏感菌(不產β一內酰胺酶菌株)所致下列感染：兒科抗生素，主要用于中耳炎、鼻竇炎、咽炎、扁桃體炎、泌尿生殖道感染、皮膚軟組織感染、急性支氣管炎、肺炎等下呼吸道感染。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張（尤其面部）、皮膚萎縮、萎縮紋（青少年易發生）皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。

1.傳染性單核細胞增多癥患者應用本品易發生皮疹．應避免使用。 2.療程較長患者應檢童肝、腎功能和血常規。 3.阿奠西林可導致采用Benedict或Fehling試劑的尿糖試驗出現假陽性。 4.下列情況下應慎用： (1)有哮喘、枯草熱等過敏性疾病史者。 (2)老年人和腎功能嚴重摜謇時可能需調整劑量。