哈西奈德乳膏

復方醋酸地塞米松乳膏

本品主要成份為哈西奈德

本品為復方制劑，每克含醋酸地塞米松0.75毫克、樟腦10毫克、薄荷腦10毫克。父老為羥苯乙酯、香精、十六醇、液體石蠟、單、雙硬脂酸甘油酯、硬脂酸聚烴氧酯、甘油、依地酸二鈉、卡波姆、碳酸氫鈉、純化水。

唐山集川藥業利康制藥有限公司

惠州市九惠制藥股份有限公司

國藥準字H13022157

國藥準字H44024170

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

用于局限性瘙癢癥,神經性皮炎,接觸性皮炎,脂溢性皮炎以及慢性濕疹。

外涂患處，每日早晚各一次。

外用，一日1-2次，取少量涂于患處、并輕柔片刻。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。痤瘡、酒渣鼻。4.眼瞼部用藥(有引起青光眼的危險)。5.滲出性皮膚病。

長期大量長期使用可致皮膚萎縮,毛細管擴張,色素沉著以及繼發感染.偶見過敏反應。

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

用于局限性瘙癢癥,神經性皮炎,接觸性皮炎,脂溢性皮炎以及慢性濕疹。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張、皮膚萎縮、萎縮紋皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

本品所含醋酸地塞米松為糖皮質激素，具有抗炎、抗過敏作用；薄荷腦、樟腦具有促進局部循環和輕度的消炎、止痛及止癢作用。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。 請仔細閱讀說明書并遵醫囑使用。

1. 避免接觸眼睛和其他黏膜；2. 孕婦和哺乳期婦女慎用；3. 兒童應在醫生指導下使用；4. 長期大面積使用可能導致皮膚萎縮等不良反應；5. 出現過敏反應應立即停藥并就醫。