哈西奈德乳膏

鹽酸布替萘芬乳膏

本品主要成份為哈西奈德

主要成分為鹽酸布替萘芬，其化學名稱為N-[4-（1，1-二甲基乙基）芐基】一N一甲基一1一萘甲胺鹽酸鹽。輔料為：丙二醇、液狀石蠟、白凡士林、氫氧化鈉、單硬脂酸甘油酯、對羥基苯甲酸甲酯、對羥基苯甲酸丙酯、十八醇、硬脂酸聚烴氧( 40)酯、薄荷腦等。

唐山集川藥業利康制藥有限公司

四川明欣藥業有限責任公司

國藥準字H13022157

國藥準字H20020024

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

主要用于由真菌引起的手足癬、體癬、股癬及汗斑的局部治療。

外涂患處，每日早晚各一次。

外用。每次適量涂抹于患處，用于手、足癬時，一天2次，連用7天或一天1次，連用4周...

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。痤瘡、酒渣鼻。4.眼瞼部用藥(有引起青光眼的危險)。5.滲出性皮膚病。

少于2%患者有接觸性皮炎、紅斑、刺激、干燥、瘙癢、燒灼感及癥狀加重等不良反應。

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

主要用于由真菌引起的手足癬、體癬、股癬及汗斑的局部治療。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張、皮膚萎縮、萎縮紋皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

本品為苯甲胺衍生物，其作用機制為選擇性地抑制真菌角鯊烯環氧化酶，干擾真菌細胞壁的麥角甾醇的生物合成，影響真菌的脂質代謝，使真菌細胞損傷或死亡而起到殺菌和抑菌作用。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。 請仔細閱讀說明書并遵醫囑使用。

1、僅供外用，切忌口服。不宜用于眼部、粘膜部位、急性炎癥部位及破損部位。