哈西奈德溶液

克洛己新干混懸劑

本品主要成份為：哈西奈德（氯氟舒松、哈西縮松）。

本品為復方制劑，其組分為：每袋含頭孢克洛250mg，鹽酸溴已新8mg（以溴已新計）。

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江蘇正大清江制藥有限公司

國藥準字H50021460

國藥準字H20051142

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

適用于治療因敏感菌引起的呼吸道感染伴有粘稠痰液不易咳出的患者

外涂患處每日早晚各一次。

成人和10周歲以上兒童，一次一袋，一日3次，成人在感染嚴重時可加服1袋。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。4.痤瘡、酒渣鼻。5.眼瞼部用藥（有引起青光眼的危險）。6.滲出性皮膚病。7.面部不宜應用。

1、可能出現的副作用有：消化道癥狀，包括出現腹瀉、惡心、頭暈、腹痛和嘔吐。在長期使用頭孢類藥物時，可能會導致不敏感菌的大量繁殖，出現腹瀉、偽膜性結腸炎等消化道癥狀。個別情況下會出現暫時性肝臟不適，或膽汁郁積性黃疸。 　　

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

適用于治療因敏感菌引起的呼吸道感染伴有粘稠痰液不易咳出的患者

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張（尤其面部）、皮膚萎縮、萎縮紋（青少年易發生）皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。

1、本品與青霉素類抗生素或頭霉素（cephamycin）有交叉過敏反應，因此對青霉素類、青霉素衍生物、青霉胺及頭霉素過敏者慎用。