哈西奈德溶液

復方倍氯米松樟腦乳膏

本品主要成份為：哈西奈德（氯氟舒松、哈西縮松）。

本品為復方制劑，其組份為:每10克含薄荷腦0.35克、合成樟腦0.56克、水楊酸甲酯0.30克、冰片0.05克、麝香草酚0.025克、丙酸倍氯米松0.001克。

重慶科瑞制藥(集團)有限公司

福元藥業有限公司

國藥準字H50021460

國藥準字H34022476

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

具有消炎、鎮痛、止癢、抗菌、局部麻醉等作用。用于蟲咬皮炎、丘疹性蕁麻疹，濕疹、接觸性皮炎、神經性皮炎、皮膚瘙癢等。

外涂患處每日早晚各一次。

外用，涂于患處及周圍，一日2～3次。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。4.痤瘡、酒渣鼻。5.眼瞼部用藥（有引起青光眼的危險）。6.滲出性皮膚病。7.面部不宜應用。

因本品只適用于無破損皮膚表面，故忌用于皮膚損傷、糜爛或開放性傷口。

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

具有消炎、鎮痛、止癢、抗菌、局部麻醉等作用。用于蟲咬皮炎、丘疹性蕁麻疹，濕疹、接觸性皮炎、神經性皮炎、皮膚瘙癢等。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張（尤其面部）、皮膚萎縮、萎縮紋（青少年易發生）皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

偶見輕度紅斑、丘疹和皮膚瘙癢等刺激癥狀，若出現這些情況，應即停用，必要時請教醫師。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。

1僅限外用，避免與眼睛接觸，嚴禁口服。2在使用本品過程中，若出現紅斑或皮膚過敏，應即停用。3必須妥為貯放，以免被兒童誤取。